Mit mikrosystemtechnischen Verfahren entwickelt Fraunhofer IPM funktionale Materialien und Oberflächen als MEMS (Micro-Electro-Mechanical Systems) oder MOEMS (Micro-Optoelectro-Mechanical Systems). So realisieren wir in Dünn- und Dickschichttechnologie anwendungsspezifische halbleitende Schichten, flexible Elektronik oder mikrooptische Komponenten.
Unsere Mitarbeiterinnnen und Mitarbeiter verfügen über Erfahrung im Umgang mit einer Vielfalt von Materialen:
- Halbleitermaterialien wie Verbindungshalbleiter (Bi2Te3, PbTe oder SiGe) und Metalloxide (SnO2, Cr2-xTixO3+z, WO3 oder MoO3)
- Metalle wie Au, Pt, W, Ti oder Ta
- gasochrome Materialien wie Rhodiumkomplexe oder WO3
- nichtlineare optische Materialien wie LiNbO3
- magneto-, elasto- und elektrokalorische Materialien wie Kalium-Tantalat-Niobat